Ózon a legtöbb elektromos berendezés használata során keletkezik, ami leginkább a nyomtatók, fénymásolók, mikrohullámú sütők, televíziók, számítógépek közelében érezhető. Azonban a koncentráció többnyire annyira alacsony, hogy a szagküszöb értéket sem éri el.
A Novaerus plazma működése során keletkező ózon és UV sugárzás nem képes egészségkárosító vagy felületroncsoló, mérgező hatást gyakorolni a környezetre azok elenyésző, jóval az egészségügyi határérték alatti koncentrációja, illetve intenzitása miatt. A NanoStrike® plazma hatásmechanizmusa nem az UV sugárzáson vagy az ózon képződésen alapszik.
A plazmamezőben roncsolódott maradék anyagok (szétesett sejtek, megrepedt sejtfal, torzult fehérjelánc stb.) ellenállóképessége jóval kisebb, mint az ép sejteké, ezért már igen kis mennyiségben is képes tovább károsítani azokat az UV és az ózon. Ezek járulékos hatások, melyek a kórokozók plazma általi károsítása nélkül hatástalanok lennének, mivel annyira alacsony koncentrációban, illetve energiaszinten vannak jelen. A NanoStrike® plazma hatékonysága a hatásmechanizmus összetettségén alapul; ha valamennyi tulajdonságát egyenként és önállóan vetnénk be a mikroorganizmusok ellen, azok jóval gyengébb hatást tudnának csak kifejteni.